更新時(shí)間:2022-05-20 16:08:13
溫州潔凈室的濕度如何控制?下面就跟溫州潔凈室的小編一起來(lái)看看吧!潔凈室的溫濕度主要是根據工藝要求來(lái)確定,但在滿(mǎn)足工藝要求的條件下,應考慮到人的舒適度感。隨著(zhù)空氣潔凈度要求的提高,出現了工藝對溫濕度的要求也越來(lái)越嚴的趨勢。潔凈室在凈化工程具體工藝對溫度的要求以后還要列舉,但作為總的原則看,由于加工精度越來(lái)越精細,所以對溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中,作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來(lái)越小。直徑100um的硅片,溫度上升1度,就引起了0.24um線(xiàn)性膨脹,所以必須有±0.1度的恒溫,同時(shí)要求濕度值一般較低,因為人出汗以后,對產(chǎn)品將有污染,特別是怕鈉的半導體車(chē)間,這種車(chē)間不宜超過(guò)25度。潔凈室的濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對濕度超過(guò)55%時(shí),冷卻水管壁上會(huì )結露,如果發(fā)生在精密裝置或電路中,就會(huì )引起各種事故。相對濕度在50%時(shí)易生銹。此外,濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著(zhù)的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉,但當相對濕度低于30%時(shí),又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時(shí)大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。上述就是關(guān)于溫州潔凈室的濕度如何控制的介紹了。
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